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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
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772 |
인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath]
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771 |
RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral]
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770 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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769 |
micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
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768 |
E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포]
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767 |
RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트]
[1] | 534 |
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766 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
[1] | 538 |
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plasma modeling 관련 질문 [Balance equation]
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764 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield]
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763 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
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762 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
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761 |
Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath]
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760 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise]
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Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수]
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758 |
타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산]
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center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
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ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
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plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장]
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754 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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