|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
| 109398 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 27002 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 64131 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 75910 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 109821 |
|
715 |
간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database]
[1] | 857 |
|
714 |
Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R]
[1] | 862 |
|
713 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 863 |
|
712 |
수중속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다. [방전 특성과 절연 파괴]
[2]  | 867 |
|
711 |
self bias [쉬스와 표면 전위]
[1] | 873 |
|
710 |
전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
[1] | 884 |
|
709 |
활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀]
[1] | 885 |
|
708 |
ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다.
[1] | 901 |
|
707 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
[1] | 903 |
|
706 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
[1] | 904 |
|
705 |
PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙]
[1] | 911 |
|
704 |
챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
[1] | 912 |
|
703 |
전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성]
[1] | 914 |
|
702 |
plasma striation 관련 문의 [Plasma striation]
[1] | 916 |
|
701 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability]
[1] | 920 |
|
700 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전]
[1] | 922 |
|
699 |
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산]
[1] | 924 |
|
698 |
ICP 후 변색 질문
| 927 |
|
697 |
프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath]
[1] | 929 |
|
696 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
[1] | 929 |
