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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
[2] | 1268 |
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O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1275 |
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플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films]
[1] | 1276 |
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612 |
교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
[1] | 1281 |
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611 |
자기 거울에 관하여
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610 |
상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브]
[2] | 1297 |
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플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy]
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608 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1302 |
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607 |
Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown]
[1] | 1312 |
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606 |
Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
[1] | 1318 |
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605 |
플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
[1] | 1321 |
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604 |
고진공 만드는방법. [System material과 design]
[1] | 1323 |
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603 |
아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance]
[1] | 1324 |
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602 |
안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
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반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1330 |
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600 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭]
[1] | 1331 |
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599 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1332 |
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598 |
전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb]
[1] | 1345 |
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597 |
3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존]
[2] | 1357 |
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596 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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