공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
| 102781 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24680 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61398 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73465 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105806 |
613 |
O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1223 |
612 |
RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher]
[1] | 1224 |
611 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭]
[1] | 1226 |
610 |
PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어]
[1] | 1231 |
609 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1234 |
608 |
플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기]
[1] | 1235 |
607 |
플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films]
[1] | 1236 |
606 |
상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브]
[2] | 1240 |
605 |
자기 거울에 관하여
| 1246 |
604 |
반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1246 |
603 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1251 |
602 |
플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
[1] | 1259 |
601 |
Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
[1] | 1264 |
600 |
고진공 만드는방법. [System material과 design]
[1] | 1274 |
599 |
Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown]
[1] | 1283 |
598 |
아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance]
[1] | 1284 |
597 |
전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb]
[1] | 1292 |
596 |
안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
| 1298 |
595 |
3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존]
[2] | 1312 |
594 |
OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단]
[1] | 1313 |