번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22613
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59307
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71048
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98089
87 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22689
86 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22699
85 Peak RF Voltage의 의미 22757
84 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22772
83 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22848
82 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 22978
81 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 23020
80 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23035
79 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23056
78 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 23233
77 No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율] 23258
76 고온플라즈마와 저온플라즈마 23303
75 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23360
74 DC glow discharge 23372
73 CCP/ICP , E/H mode 23384
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23431
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23570
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. [플라즈마 도서 추천] 23782
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24005

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