안녕하세요

반도체 설비 제조 업체 연구소에 근무 하는 하태경 이라고 합니다.

Plasma 진단 에 관련한 질문 있어 글을 씁니다.


저희 회사는 remote plasma를 사용하는 반도체 ashing 설비를 생산 하고 있습니다.

Plasma source는 ICP type 입니다. matcher에 VI sensor가 장착 되여 있습니다. matcher와 source 사이에 VI sensor가 위치합니다.

plasma source - baffle - process chamber 구조로 source에서 생성되는 radical의 down stream 으로 ashing를 진행 합니다.

chuck은 히팅외에는 다른 역할를 하지 않습니다.


여기서 질문은 VI sensor를 활용하여 어떠한 진단을 할 수 있는지가 궁금합니다.

현재 monitroing 해본 것으로는, end point를 보려 했지만 값이 변화하지 않습니다.. 케미스트리 변화에는 값이 변화 합니다.

VI sensor로 진단 가능한 부분이나 사례등이 있으시면 무엇이라도 좋습니다 답변 부탁 드립니다.

예로 PM 주기 monitoring 등도 좋은 아이템이 될것 같습니다.

감사합니다


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74886
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18737
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88027
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 2
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 21
716 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 31
715 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 40
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 66
713 corona model에 대한 질문입니다. [1] 82
712 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 106
711 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 114
710 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 116
709 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 126
708 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 143
707 plasma 공정 중 색변화 [1] 157
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 164
705 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 190
704 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 200
703 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 215
702 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 241
701 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 254
700 Self bias 내용 질문입니다. [1] 255
699 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 270

Boards


XE Login