안녕하세요

디스플레이 업계에서 OLED 및 Organic 담당 연구중인 직장인입니다.

물질 증착 전후로 Plasma를 활용한 표면 처리를 하게되는 경우가 있어, 몇가지 질문드립니다.

 

Ar/O2 Plasma

큰 에너지를 가진 무거운 이온이 대상의 표면에 충돌해 Sputtering 효과로 미세 마모를 일으켜 오염 물질 제거와 증발이 발생되고

plasma로 이온화된 산소들이 표면 물질과 반응해 세정 효과를 나타낸다

 

위와 같이 알고 있는데, Ar/O2 Plasma를 유기물이나 무기물 혼합물에 적용시킬 경우에

현재는 물질에 Plasma 공정을 적용시킨 Device를 만들어 전기적 특성으로 확인하고 있는데,

Plasma로 인해 물질의 기존 특성이 파괴되는건지, 표면만 세정되어 개질이 일어나 특성이 바뀌는지

원리 분석이 필요해보여 이를 어떤 방법으로 알아봐야하는지 알려주시면 감사하겠습니다. 

 

그리고, O2 Ashing 처리도 표면개질을 위해 진행하는 경우가 있는데,

O2 Ashing과 Ar/O2 Plasma는 장비에 따라 VUV(Vacuum-UV) 발생으로 Organic bonds(유기 결합) 분해를 일으킨다

이외에 어떤 차이가 있나요?

 

마지막으로 Plasma와는 별개인데,

UV-O3 treatment 방식으로 표면개질을 진행할 경우에는 물리적 충돌을 제외한 UV로 인해

발생된 O3로 유기 결합 분해만 일어난다고 이해하면 될까요?

 

부족한 지식으로 질문이 다소 난해해 죄송합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102611
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24654
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61350
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73432
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105735
833 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 120
832 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 185
831 Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다. [1] 188
830 플라즈마 식각 커스핑 식각량 224
829 PEALD 챔버 세정법 [1] 243
828 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 256
827 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 263
826 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 286
825 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 296
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 299
823 플라즈마 설비에 대한 질문 301
822 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 324
821 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 333
820 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 334
819 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 337
818 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 342
817 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 347
816 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 347
815 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 351
814 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 365

Boards


XE Login