Plasma in general 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서)
2020.06.26 14:26
플라즈마는 전기장에서 가속운동을 하고 자기장에서 회전운동을 하는데 이런 현상이 발생하는 이유가 자기의 시간적 변화에 의해 전기적 성질이 발현되는 현상을 뜻하는 전자기유도현상과 관련있나요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76901 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20295 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57212 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68764 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92723 |
479 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1568 |
478 | 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] | 1612 |
477 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1627 |
476 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1631 |
475 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1655 |
474 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1672 |
473 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1678 |
472 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1679 |
471 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1679 |
470 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1694 |
469 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1708 |
468 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1710 |
467 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1713 |
466 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1755 |
465 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1765 |
464 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1773 |
463 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1781 |
462 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1813 |
461 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1824 |
» | 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] | 1861 |