안녕하세요.

 

반도체 완성품 업체 재직 중인 설비엔지니어입니다.

저희가 현재 좌우 비대칭과 관련된 DATA를 TARGET하기 위하여 설비 HW적 가변요소를 추가하여 Targeting 중입니다.

HW 적 가변요소로는 Ring kit 중 1요소를 Lift pin으로 들어올려 sheatch의 모양을 RF TIME 초반과 일정하게 유지하여

edge Tillting 제어를 하고 있습니다.

 

다만 현재 RING을 LIFT하는 시점에 유독 RF TIME 초반시점에만 particle이 쏟아지고 있습니다.

Ring KIT의 성분으로는 SIC, Quartz 재질이며 Lift가 되는 Ring의 경우에는 Quartz ring을 직접제어하고 있습니다.

 

현재 가장 의심하고 있는 부분은 SIC Ring 에서 Particle이 기인되고 있다고 가장 의심하고 있습니다.

실제로 Particle 성분분석 시에도 SI, O, F 계열이 검출되고 있는데, 해당 부분을 해소할 수 있는 방안이 어떤점이 있을까요?

이론적 OR 실험적으로든 비슷한 난제를 극복한 사례가 있으실까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102907
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61430
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105841
813 Druyvesteyn Distribution 371
812 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 383
811 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 383
810 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 396
809 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 396
808 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 401
807 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 403
806 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 405
805 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 411
804 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 412
803 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 417
802 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 424
801 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 426
800 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429
799 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
798 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 432
797 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 434
796 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 438
795 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 448
794 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450

Boards


XE Login