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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
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783 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
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782 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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781 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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780 |
ICP dry etch 시 공정 문의 사항.
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779 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
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778 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
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777 |
Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 251 |
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776 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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775 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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774 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
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773 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
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772 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
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771 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포]
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770 |
ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
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769 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마]
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768 |
Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
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767 |
ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation]
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766 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막]
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765 |
대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해]
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