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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅]
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플라즈마내의 전자 속도 [Self bias]
[1] | 22243 |
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플라즈마의 발생과 ICP
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Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22543 |
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질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 22710 |
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Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 22810 |
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87 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22821 |
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Peak RF Voltage의 의미
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in]
[1] | 22905 |
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84 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 22953 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential]
[2] | 23104 |
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81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 23263 |
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No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율]
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
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고온플라즈마와 저온플라즈마
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remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical]
[1] | 23385 |
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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DC glow discharge
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74 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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