Etch RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소
2022.03.24 15:39
안녕하십니까, 반도체분야에서 공부하고 있는 비전공자 학생입니다.
최근 RIE 장비로 Etching test를 진행 중 궁금한것이 생겨서 질문드립니다.
RIE 장비에서 Etching rate에 크게 기여하는 부분이 dc-bias라고 알고 있습니다.
가스 유량, 압력, 그리고 power 심지어 reflected power 마저도 동일한데 dc-bias만 대략 70V나오던 것이 50V로 줄어드는 현상이 있었습니다. 혹시 이러한 간간히 일어나는 건가 싶어 질문남겨드립니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76791 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20229 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57178 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68723 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92477 |
671 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |
670 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 596 |
669 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 606 |
668 | RF Sputtering Target Issue [2] | 606 |
667 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 609 |
666 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 610 |
665 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 611 |
664 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 614 |
663 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |
662 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 618 |
661 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 619 |
660 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 620 |
659 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 628 |
658 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 636 |
657 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 636 |
656 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 651 |
655 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 657 |
654 | Polymer Temp Etch [1] | 667 |
653 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 670 |
652 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 673 |