Plasma in general 플라즈마 기술관련 문의 드립니다

2021.01.08 17:45

케이 조회 수:6419

안녕하세요 

 

현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다 

표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다 

 

1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?

 

2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?

 

목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데, 

입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아 

위와 같은 질문을 드립니다

 

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76850
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20256
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68745
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92607
337 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4509
336 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4835
335 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5039
334 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5084
333 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5175
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5315
331 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5469
330 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5564
329 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5682
328 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5825
327 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5894
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5926
325 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5935
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6035
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6083
322 자료 요청드립니다. [1] 6209
321 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6209
320 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6268
319 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6283
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6368
쓰기
태그

Boards

XE Login