Others Microwave & RF Plasma

2024.03.11 16:59

rodman 조회 수:130

안녕하세요. Plasma cleaner 장비 업체에 근무중인 직원 입니다.

 

저희는 RF 타입의 Plasma claner 장비를 제조 합니다.

다름이 아니라, Microwave 방식과 RF 방식의 차이를 자세히 알고싶습니다.

어떤 방식이 효과가 더 좋은지... 

각 방식의 장단점에 대해 자세히 알고 싶습니다.

 

특히... 동남아지역 장비 유저들은 Microwave 방식을 선호 한다고하는데... 이에 대한 근거가 무었일까요?

 

불쑥 질문만 드려 죄송합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76838
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20251
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
796 Druyvesteyn Distribution 2
795 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 5
794 플라즈마 식각 커스핑 식각량 11
793 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 12
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 14
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 46
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 52
789 플라즈마 설비에 대한 질문 58
788 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 61
787 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 67
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 68
785 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 76
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 78
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 88
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 106
781 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 111
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 111
» Microwave & RF Plasma [1] 130
778 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 131
777 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 132

Boards


XE Login