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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[275]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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standing wave effect에 대한 질문이 있습니다.
[1] | 1632 |
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474 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 1660 |
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473 |
Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 1668 |
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472 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1668 |
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471 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1673 |
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470 |
RF 전압과 압력의 영향?
[1] | 1685 |
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469 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1692 |
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468 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다.
[3] | 1696 |
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467 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문
[1] | 1706 |
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466 |
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 1741 |
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465 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1748 |
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464 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성
[1] | 1764 |
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463 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1767 |
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462 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
[1] | 1805 |
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461 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1816 |
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460 |
플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서)
[1] | 1822 |
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459 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1851 |
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458 |
매칭시 Shunt와 Series 값
[1] | 1861 |
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457 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1863 |
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456 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1873 |
