Others 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용

2004.06.19 16:27

관리자 조회 수:9120 추천:259

최근 플라즈마는 핵융합연구에서 뿐만 아니라 오히려 물질의 표면 처리를 위한 도구로써 혹은 공기 정화장치의 방법으로써 사용이 늘고 있습니다. 에어콘이나 공장 굴뚝 및 디젤 자동차의 매연 제거, 기체 상태의 폐기물 처리등에 플라즈마가 사용되고 있습니다. 기본적인 원리는 다음과 같습니다.
코로나 방전을 통해서 플라즈마를 발생합니다. 발생된 코로나 플라즈마는 양전하를 띤 이온과 음 전하를 띤 전자들로 구성되어 있고 대부분 전기적으로 중성인 공기 혹은 기체 원자 및 분자들로 구성되어 있습니다. 여기서 음전하를 띤 전자들은 원자난 분자와 충돌을 하며 이들의 화학 반응을 활성화 시킵니다. 예를 들어 공기중의 O2는 O2+O의 반응으로 O3의 오존이 발생하게 되는 과정에 O2+e ->O+O+e 를 만들어 이들 반응이 가능하게 합니다. 시중의 오존 발생기도 코로나 방전을 통한 플라즈마속에서 반응이 일어나 발생하는 경우 입니다. 이 같은 반응으로 유해 기체인 NOx, SOx등의 기체를 처리할 수 있습니다. 또한 이들 전자는 공기 중의 담배 연기같은 미세 먼지에 잘 흡착이 되어서 먼지를 음전하로 하전 시킵니다. 하전된 먼지는 전기장이 형성된 지역을 통과시켜 먼지를 모을 수 있으며 이러한 방법을 통하여 먼지를 처리합니다. 에어콘 속에 장착된 플라즈마 발생기는 이런 소형 코로나 방전기로 공기 정화기능을 갖게 된 것이며 이 기술은 새로운 것이기 보다는 이미 개발된 기술을 에어콘이라는 장치에 처음 적용하였다는데 가치가 있습니다.

  표면 개질이란 물질의 표면 특성의 향상을 의미합니다. 예를 들어 질화처리를 한 금속 표면은 표면 강도/경도가 향상되는 특징을 갖습니다. 즉, 칼을 질화처리하면 명검이 될 수 있습니다. 이때 표면처리에 위의 플라즈마 내의 이온, 즉질소 플라즈마 분위기에서 칼을 처리하게 되면 칼 표면에 질소가 주입되어 표면의 개질이 일어나게 되는것 입니다.

  PDP는 Plasma Display Panel의 약자입니다. 이 방법은 LCD와는 다르게 화소마다 플라즈마를 발생하여 빛을 내어 화면을 구성하는 방법을 의미합니다. 이 방법의 특징은 LCD에 비해 면적이 40-50'' 이상의 대면적 화면의 구성에 적합하다고 알려져 있어 많은 연구가 되고 있습니다. 화소내에는 두개에서 세개의 전극에 교류전원이 공급되어 플라즈마를 발생합니다. 발생된 플라즈마는 첨가된 Xe의 기체를 여기시키고 여기된 Xe가 안정 상태로 전환될 때 내는 광자가 화소벽에 있는 화학물질을 여기시켜 가시 광선의 빛이 나게 됩니다. 이 원리는 현재 사용하고 있는 형광등과 매우 유사하다고 생각하시면 됩니다. 형광등에서는 필라멘트에서 나온 전자에 의해 발생된 플라즈마가 유리관 표면에 발라진 형광물질과 충돌하여 여기되면서 빛이 나오게 되며 주로 청색계열의 빛이 나와 형광등 밑에서 얼굴이 창백하게 보입니다. PDP는 이러한 방법으로 적색, 초록, 청색의 삼원색을 만들어 화상을 꾸미게 됩니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2921
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 14123
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50055
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62367
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80738
660 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 113
659 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 130
658 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 166
657 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 168
656 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 175
655 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 185
654 doping type에 따른 ER 차이 [1] 201
653 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 202
652 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 213
651 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 234
650 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 235
649 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 238
648 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 245
647 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 245
646 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 254
645 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 259
644 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 262
643 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 270
642 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 270
641 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 272

Boards


XE Login