Plasma 분야에서 In-flight plassma process라는 용어가 특별히 정의되어서 사용되고 있는지도 잘 모르겠습니다. 질문하신분은 수업중에 이 용어에 대해 듣게 되었다고 하였는데 어떤 수업에서 언급된 내용인지요?

(이 내용에 대해선 신뢰성이 없습니다. 단지 참고해 보십시요) 일반적으로 확산되는 플라즈마 즉 플라즈마의 발생영역이 제한되어 있으며 플라즈마를 이용해서 처리하고자 하는 플라즈마 반응영역이 분리되어 있는 경우, 많은 예가 있습니다만, 일반적으로 이러한 장치를 remote plasma 반응기라 정의되는 장비의 경우, 또는 ECR 식각 플라즈마등과 같은 플라즈마등과 같은 플라즈마 반응장치에서는 발생영역에서 발생된 플라즈마는 반응역역으로 확산되어 들어가게 되는데 이 때 플라즈마의 확산 경로상에서 프라즈마는 주변의 중성입자들과 반응을 하여 중성입자를 이온화, 해리등의 반응과정을 겪게 됩니다. 이런 경우에 플라즈마가 날아가는 동안 반응한다고 표현하곤 합니다. 혹은 토치 플라즈마를 사용해서 모제의 표면에 세라빅 막등ㅇ르 도포하는 경우에서 토치팁 내부에서 발새한 플라즈마는 팁에서 방출되면서 분사되는 미세크기의 세라빅 파우더와 반응하여 고온 고속의 파우더가 토치로부터 모제의 표면으로 방사됩니다. 이러한 경우도 방출되어 날아가는 플라즈마와 파우더가 반응한다고 표현하기도 합니다. 이들 설명들은 두서없는것으로 용어의 정의에 대한 설명ㅇ로는 부족하고 단지 상황설명에 지나지 않음을 이해하시기 바랍니다.

따라서 질문하신 용어에 대해서는 저희도 궁금하니 이 용어에 대해 알게 되시면 설명을 이곳에 계시해 주시면 감사하겠습니다. 아울러 IEEE ICOPS 98 초록집은 저희가 갖고 있으나 97년도 것은 없습니다. 아마도 이 책은 한양대학 원자력 공학과의 정규선 교수님(02-290-0465)이 갖고 계실지 모르겠습니다. 또한 그분에게도 이 용어에 대해 여쭤보시기 바랍니다.