Remote Plasma PECVD 매칭시 Reflect Power 증가

2008.08.12 15:39

김 선 미 조회 수:24550 추천:421

안녕하세요. 저는 연구실에서 마이크로웨이브 플라즈마 장치를 갖고 실험하고 있는 학생입니다.
플라즈마가 기판으로 도달되지 않아 플라즈마를 기판으로 내리기 위해  tunner를 조절하여 어느정도
내렸습니다. 그런데 forward power가 증가함에 따라 Reflect power도  상당히 큰 값으로 증가했습니다. 매칭이 잘못된거 같은데 아무리 tunner를 크게 또는 작게 해도  소용이 없었습니다.
혹시 다른 매칭방법은 없나요? 재료공학과 학생이라 플라즈마에 대한 지식이 많이 부족합니다.
알기쉽게 설명해주시면 감사하겠습니다.^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4931
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16299
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51252
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63768
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83577
679 plasma striation 관련 문의 file 7
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 24
677 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 31
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 file 38
675 Polymer Temp Etch [1] 62
674 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 62
673 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 83
672 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 86
671 Plasma Arching [1] 106
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 107
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 142
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 159
667 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 202
666 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 205
665 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 206
664 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 206
663 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 208
662 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 215
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 222
660 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 253

Boards


XE Login