Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24640 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18737
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88025
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 update 2
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 21
716 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 31
715 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 40
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 66
713 corona model에 대한 질문입니다. [1] 82
712 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 106
711 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 114
710 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 116
709 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 126
708 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 143
707 plasma 공정 중 색변화 [1] 157
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 164
705 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 190
704 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 200
703 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 215
702 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 241
701 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 254
700 Self bias 내용 질문입니다. [1] 255
699 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 270
쓰기
태그

Boards

XE Login