Others 질문이 몇가지 있읍니다.

2010.01.20 05:23

park sung min 조회 수:19139 추천:147

저온플라즈마에 관해 관심이 많으며 플라즈마를 이용한 플라스틱 개질 및 환경기술을
개발해 보려 합니다.
기존에는 플라즈마를 제외한 복합파동을 이용한 기술부분들이었으나 기술적 한계성
에 의해 플라즈마부분을 병용해 보려 고려중입니다만 플라즈마에 대한 이해와 상식이
많이 부족한 상태라 도움 부탁드리는 바입니다.

1.플라즈마가 자기장에 의해 구속된다는 의미를 좀더 명확히 알고 싶읍니다.
   즉 자기장에 구속된다는 의미가 magnetic well의 의미처럼 자기장으로 폐쇠된
   제한된 공간내에 가두어 진다는 의미인지 아니면 자기장과의 일정한 거리를 둔 영역에서의
   전자물리적 현상에 의한 구속력을 의미 하는지요?

2. 자기장에 의해 저온플라즈마가 구속된다면(위의 어떤 방식으로든) 자기장의 인가극성(S/N극)
   에 따른 거동의 차이점이 있는지요?
   S극이 인가될때,N극이 인가될때,S극과 N극이 대향상태일때,또는 S/S,N/N이 대향될때의 거동
   차이가 있는지요?
3.저온플라즈마가 자기장에 의해 어떤 방식이로든 구속이 된다고 할때 예를 들어 OH' radical이
   수용액중에 들어 가면 hydroxy radical이 되어 전자기를 유지하는 상태가 되었을때 수중에서도
   자기장에 의한 구속이 발생될 수 있는지요?

4.플라스틱의 표면개질 방향을 1.전도체물질(예:알루미늄,탄소)로 플라즈마를 이용한 코팅후
  전기도금에 의한 세라믹 도금 2.플라스틱에 직접 세라믹을 코팅하는 방향으로 볼 수 있는데  
  비용 및 성능 측면에서의 효율적인 방향으로 어느방향이 나을런지요?

  
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74885
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18736
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66686
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88011
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 new 1
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 21
716 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 31
715 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 40
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 66
713 corona model에 대한 질문입니다. [1] 82
712 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 106
711 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 113
710 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 116
709 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 119
708 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 143
707 plasma 공정 중 색변화 [1] 157
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 164
705 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 190
704 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 200
703 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 215
702 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 241
701 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 254
700 Self bias 내용 질문입니다. [1] 255
699 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 270

Boards


XE Login