안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.

 

그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.

 

세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76441
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19999
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57074
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68544
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91346
777 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. 8
776 ICP에서 전자의 가속 19
775 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 20
774 Edge ring의 역할 및 원리 질문 21
773 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] update 25
772 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 34
771 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 36
770 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 56
769 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 56
768 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 66
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 67
766 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 123
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 132
764 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 134
763 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 135
762 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 156
761 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 166
760 corona model에 대한 질문입니다. [1] 166
759 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 167
758 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 175

Boards


XE Login