안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

한가지더 의문점이 있어서 문의 드립니다.

 

현재 장비로는 ECR sputter, RF sputter 를 보유 하고 있습니다.

 

현재 저의 장비의 plasma density를 알고 싶은데 계측장비를 구입하기는 너무 액수가 큽니다.

 

간단히 자사에서 쉽게 계측할 수 있는 방법이 있는지에 대해서 여쭤보고 싶습니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76707
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20159
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57160
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68683
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92236
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 8
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 50
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 56
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 67
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 70
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 77
781 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
780 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 98
779 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 99
778 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 105
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 106
776 Microwave & RF Plasma [1] 107
775 skin depth에 대한 이해 [1] 114
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 119
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 129
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
771 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 142
770 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
769 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 154

Boards


XE Login