안녕하세요 PLASMA 에 관심이 많은 초보직장인 ? 입니다.


짧은 생각이지만 Plasma Source 로 작용하는 Ar Gas 량이 많아지면 Depo Rate 이 높아진다고 생각됩니다.

그러나 일부 실험에서 Ar Gas 량의 증가가 Depo Rate 하향을 경험하였습니다.


이런것을 어떻게 설명할 수 있는지 많은 분들의 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4941
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16313
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51255
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63778
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83585
679 plasma striation 관련 문의 file 21
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 29
677 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 file 38
676 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. [1] 39
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 65
674 Polymer Temp Etch [1] 67
673 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 83
672 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 93
671 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 108
670 Plasma Arching [1] 115
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 144
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 159
667 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 207
666 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 208
665 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 210
664 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 211
663 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 212
662 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 215
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 225
660 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 258

Boards


XE Login