Others Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
2017.11.24 12:13
Diamond tip으로 insulator, semiconductor, conductor를 긁어서 깨뜨리는 경우, 3 경우 모두 플라즈마가 생기고 이 때 insulator>semiconductor>conductor 순으로 electron 의 에너지가 높은 것으로 알려져있습니다.
( insulator : several hundred to keV, semiconductor : 0~100 eV, conductor : negligible )
저는 Ceramic Powder (Y2O3 ~900nm) 를 아음속으로 기판에 분사시켜서 증착하는 Aerosol Deposition 중에도 플라즈마가 생기는 것을 PMT 센서로 계측하고, 이를 증착에 미치는 영향과 연관시키려고 합니다.
질문 사항은 다음과 같습니다.
1. 일반적으로, E-field를 가해서 플라즈마를 생성할 때, electron energy 가 어느 정도 쯤 되나요?
Tribo-Plasma 가 발생하면서 생겼다고 주장하는 keV의 높은 에너지의 전자도 Tribo-Plasma에 의한 것으로 생각할 수 있을까요? 아니라면 다른 어떤 요인이 있을까요?
2. 상온 대기압 하에서 수 keV의 전자가 방출된다면 이 전자는 몇 m 의 거리를 움직일 수 있을까요? 그것을 대략적으로 계산할 수 있는 식은 어떤 것이 있을까요?
3. 플라즈마가 생겼다면, light emission 을 동반할 것이기 때문에, 200~780 nm 의 광을 측정할 수 있는 PMT 센서로 계측 중입니다. PMT Sensor가 기판으로부터 약 3~4cm 정도 떨어져있는데, 특정 조건(증착 조건 : 분말이 깨지는 조건)에서 오작동을 합니다. 수 keV의 전자가 방출되었을 때 계측기에 영향을 미칠 수 있을까요?
4. 수 um 영역에서 플라즈마가 생겼을 경우 이 때 생성되는 열에너지가 어느 정도가 될까요? 온도가 어느 정도로 증가할까요?
Ceramic 이 깨질 때 형성되는 E-field 는 약 4.4*10^5 V/cm 라고 합니다. 주변 분위기는 Air 로 유지되고 있습니다.
감사합니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76732 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20202 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 21 |
788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 37 |
787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 53 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 59 |
785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 64 |
784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 69 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
782 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 81 |
781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 86 |
780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 101 |
779 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 113 |
778 | Microwave & RF Plasma [1] | 115 |
777 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 115 |
776 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 124 |
775 | skin depth에 대한 이해 [1] | 127 |
774 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 132 |
773 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 138 |
771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 147 |
770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 151 |