ESC ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
2017.12.18 05:12
반도체 업종에서 근무하는 사원 입니다.
PVD Chamber에서 ESC 사용하는데 Center tap bias의 역할과 Center tap bias로 생길 수 있는 문제점에 대해서
궁금하여 질문 드립니다..
아직 초년생이라 장비 manual을 보는데도 애로사항이 많아 문의 드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] | 5821 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17286 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 53122 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 64500 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 85113 |
698 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 26 |
697 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 57 |
696 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 68 |
695 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 86 |
694 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 103 |
693 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 124 |
692 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1] ![]() | 158 |
691 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 160 |
690 | ESC DC 전극 Damping 저항 | 162 |
689 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1] ![]() | 169 |
688 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 184 |
687 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 213 |
686 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 220 |
685 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 220 |
684 |
RF Sputtering Target Issue
[1] ![]() | 220 |
683 | Polymer Temp Etch [1] | 226 |
682 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 232 |
681 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 236 |
680 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] ![]() | 240 |
679 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 246 |