안녕하세요. 한국기계연구원과 전기집진기 관련하여 테스트를 진행중인데,

여기에 플라즈마나 랭뮤어프로브와 유사한 기술이 관련있는 것으로 알고있습니다.

400mm*400mm 사이즈의 2개의 판재가 200mm 간격으로 배열되어있고, 그 중간 지점에 방전침이 있습니다.

방전판과 방전침 사이에 20kV정도 고전압을 인가하면 파란 방전이 약하게 형성됩니다.

X,Y,Z축으로 움직일 수 있는 모션 스테이지 끝부분에 알루미나로 외부를 절연시킨 탐침침을 고정했습니다.

프로브를 밀어넣어 멀티미터로 측정하여 아래 그림와 같은 결과가 나왔습니다.

2018-09-18_093510.png

저는 단순히 멀티미터에 방전판을 공통라인으로 연결하고 프로브에서 측정하였습니다만.

바이어스전압을 인가하여 측정을 해야한다는데, 바이어스전압이 어떤 의미인지? 어떻게 연결하여야하는지 도움을 받고 싶습니다.

현재는 프로브에 반대극성의 고전압을 연결하여 측정하는 방법을 생각중에 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
819 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [1] update 5
818 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [1] update 11
817 인가전압과 ESC의 관계 질문 [1] 33
816 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 45
815 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 48
814 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 51
813 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [2] 53
812 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 58
811 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 61
810 플라즈마 식각 커스핑 식각량 77
809 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 80
808 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 83
807 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 84
806 Druyvesteyn Distribution 87
805 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 91
804 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 92
803 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 92
802 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 93
801 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 105
800 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리] [1] 106

Boards


XE Login