ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1668

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.


플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,


Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.


튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 


주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76844
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20252
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68744
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92603
796 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 6
795 Druyvesteyn Distribution 6
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 14
793 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 15
792 플라즈마 식각 커스핑 식각량 17
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 48
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 54
789 플라즈마 설비에 대한 질문 60
788 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 61
787 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 67
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 69
785 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 76
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 79
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 88
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 107
781 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 111
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 113
779 Microwave & RF Plasma [1] 130
778 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 131
777 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 132

Boards


XE Login