ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3559

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92696
797 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 10
796 Druyvesteyn Distribution 13
795 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 22
794 플라즈마 식각 커스핑 식각량 26
793 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 41
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 60
791 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 64
790 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 65
789 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 71
788 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 71
787 플라즈마 설비에 대한 질문 71
786 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 77
785 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 79
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 91
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 94
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 116
781 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 117
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 120
779 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 138
778 Microwave & RF Plasma [1] 138

Boards


XE Login