Deposition 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.

2019.05.22 16:11

Beatrice 조회 수:482

안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.


다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.


Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데


Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서


평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4906
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16237
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63754
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83542
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 17
677 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. update 24
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 file 33
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 54
674 Polymer Temp Etch [1] 60
673 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 73
672 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 81
671 Plasma Arching [1] 94
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 106
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 137
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 157
667 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 192
666 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 199
665 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 202
664 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 205
663 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 208
662 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 215
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 218
660 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 245
659 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 274
쓰기
태그

Boards

XE Login