Deposition 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
2019.05.22 16:11
안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.
다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.
Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데
Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서
평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76845 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20253 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68745 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92605 |
797 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 2 |
796 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 6 |
795 | Druyvesteyn Distribution | 6 |
794 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 15 |
793 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 18 |
792 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 18 |
791 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 48 |
790 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 56 |
789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 60 |
788 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 62 |
787 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 67 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 69 |
785 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 76 |
784 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 79 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 88 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 107 |
781 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 111 |
780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 113 |
779 | Microwave & RF Plasma [1] | 130 |
778 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 131 |