안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.

관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.

ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.

pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.

 

질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4981
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16331
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63784
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83590
680 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 9
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 37
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 41
677 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 45
676 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. [1] 48
675 Polymer Temp Etch [1] 69
674 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 69
673 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 86
672 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 103
671 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 110
670 Plasma Arching [1] 125
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 147
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 159
667 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 209
666 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 209
665 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 214
664 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 214
663 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 217
662 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 218
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 231

Boards


XE Login