안녕하세요. 반도체 관련 엔지니어로 근무하고 있는 직장인입니다.

 

현재 공정이 완료된 텅스텐 재료에 대기압 플라즈마를 가하여 정전기 제거를 하고있습니다.

 

Ar gas를 이용하였으며 정전기 측정장비로 제거 되는 것 까지는 확인 되었습니다.

 

추가로 여쭤보고 싶은 부분이 정전기 제거 후에도 반영구적으로 정전기가 발생하지 않는 것도 확인이 되는데요.

 

이 부분에 대해서는 관련 자료를 찾아보아도 나오는 부분이 거의 없어서요.

 

O, N 라디칼들이 계면에서 어떠한 에너지 반응을 일으키는 건지. 텅스텐 표면에 어떤 결합에너지에 영향을 주는 것인지 궁금하네요.

 

플라즈마를 통하여 정전기 방지가 유지되는 것이 어떠한 Process로 진행될 수 있는지 궁금합니다.

 

고견 여쭙겠습니다. 감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 12
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 31
781 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 35
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 39
779 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
778 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 55
777 Microwave & RF Plasma [1] 64
776 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 70
775 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 75
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 82
773 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 93
772 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 101
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 104
770 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 113
769 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 118
768 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 129
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 129
766 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 135
765 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141
764 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 154

Boards


XE Login