Etch AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제

2022.08.22 14:09

박범훈 조회 수:462

안녕하세요, 처음으로 글을 써봅니다.

 

AlCu Etch시 Cl2, BCl3 , N2 3개의 gas를 이용하여 Etching 하고 있습니다만 Etch 후 검정색 점형태 혹은 가루같은 형태로 Dust가 남아있는 문제가 있습니다.

 

Dust 는 Copper 성분으로 생각되는데 확실하진 않습니다.

Wet으로 제거했던 경험이 있는데 Dry Etch로는 지울 수 없는건지요?

 

Etching 장비는 TCP형태입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76632
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20138
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57143
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68662
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92102
787 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 45
786 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 48
785 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 48
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 54
783 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 57
782 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 66
781 skin depth에 대한 이해 [1] 68
780 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 77
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 77
778 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 80
777 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 89
776 Microwave & RF Plasma [1] 95
775 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 97
774 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 100
773 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 113
772 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 117
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 123
770 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 134
769 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 143
768 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 144

Boards


XE Login