Etch Polymer Temp Etch

2022.09.12 14:28

The 조회 수:145

안녕하세요

현직에있는 Etch Engineer입니다..

 

최근 Wordline으로 떨어지는 CMC공정에서의 Punching 이슈로 H/W관점에서 여러가지 Test를 하고있는 상황입니다.

(Punching Point는 300mm Wafer의 최외각보단 안쪽, 약 200~300 mm 사이에서 발생)

모든 Chamber에서 100%는 아니지만 현시점에선 200Hr 후반대 Variation이 있기때문에 그부분을 해소해야하는 상황인데요.

실험Test 결과를 바탕으로, Temp에 의한 Polymer유동 관점으로 메커니즘이 세워지지 않는 부분과

어떤 방향으로 Approach하면 좋을지 조언받기위해 질문 드립니다.

 

[Punching 개선된 Action]  *CCP설비이며 ESC가 Heater Chuck은 아님. Time Etch 사용

1. ESC Embossing 밀도 사양을 변경하여 ESC Temp가 기존대비 1도 상승하여 Reading됨

   → 초기 Punching Variation Issue는 해소

 

2. ESC Temp에 영향 주는 Chiller Temp Offset -1도 입력시, ESC Temp가 기존대비 1도 상승하여 Reading됨

    → 사용중 Punching 발생으로 해당 Input을 넣었을시, Punchng Issue가 일시적으로 해소되나 몇 매 진행후 다시 경시적으로

        Punching 발생

 

3. 상부 열전도율 높여주는 부품인 Pad(ShowerHead와 GDP사이 장착)를 Punching발생시점에 A급으로 교체

    → Sample 1매가 완벽하게 해소(그 이후 추가진행은 시도 안해봤으나, 2CB에서 2번 모두 재현성있게 확인됨.)

 

상기 3가지의 실험으로 봤을때,

- Pattern Wafer에 영향 주는 Temp가 기존대비 상승 → Wafer주변 Polymer 감소 → NOP에 유리 (Punching에 불리)

- 상부 열전도율 경시성으로 하향 → A급 교체후 열전도율 상승으로 Temp 기존대비 하향 → Polymer량 상대적으로 상부로 이동하여

  하부 Pattern Wafer 근처 Polymer량 감소 → NOP에 유리 (Punching에 불리)

☞모두 Punching에는 취약한 부분으로 수렴이되는데 어떤 개념을 놓쳤는지 그리고 이후 실험방향을 어떻게 잡아야하는

   지도 도움 부탁드립니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5591
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16863
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51345
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64198
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84174
691 플라즈마 진단 OES 관련 질문 19
690 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 33
689 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 42
688 ESC DC 전극 Damping 저항 64
687 RF Sputtering Target Issue [1] file 112
686 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 116
685 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 117
684 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 117
683 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 124
682 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 132
681 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 144
» Polymer Temp Etch [1] 145
679 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 149
678 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 151
677 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 165
676 plasma striation 관련 문의 [1] file 165
675 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 186
674 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 191
673 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 192
672 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 202

Boards


XE Login