안녕하십니까, 반도체 공정에 대하여 공부 중입니다. 

 

공부 시 몇 가지 질문 사항이 있어서 문의 드립니다.

 

1. Depoition 공정과 같은 Process 공정 시 SiH4 + N2O(O2) 등의 gas 사용하여 바로 공정을 진행하는데, 

   Remote Plasma Source를 이용한 NF3 Cleaning Prcoess 에서는 왜 Ar (Innert gas)를 이용해야만 Plasma 방전이 되는 건가요?

 

2.  물론 Deposition 공정 시 공정 조건을 위하여, Ar gas와 같은 불활성 기체를 쓰지만, Plasma 방전을 목적으로 쓰지는 않는데, 

    RPS의 경우 왜 NF3 gas만 이용 시 Plasma 방전이 안되는 것인가요?

 

물론 Deposition 공정 장비는 13.56MHz를 사용하고, RPS의 경우 400kHz를 사용합니다. 

 

혹시 이러한 주파수 차이와 연관이 있는 것인가요? 아니면 Gas의 결합 에너지의 차이와 연관이 있는 것인가요?

 

마지막으로 RPS의 Plasma 방전이 잘되게 하려면 어떠한 방법이 있을지도 함께 답변해주시면 감사하겠습니다.

 

 

감사합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77916
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20785
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57701
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69203
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93560
816 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [1] 14
815 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 31
814 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 31
813 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 32
812 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 46
811 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 51
810 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 59
809 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 67
808 플라즈마 식각 커스핑 식각량 76
807 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 76
806 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 77
805 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 80
804 Druyvesteyn Distribution 84
803 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 86
802 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 92
801 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 101
800 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리] [1] 105
799 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 110
798 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 115
797 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 123

Boards


XE Login