Deposition FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
2024.01.27 13:54
안녕하세요.
수제의 건 관련하여 막질 전문가님께 질문드립니다.
SiO2 공정 조건에 따른 막질을 해석하려고 하는데요.
그 방법 중 하나로 FTIR 측정을 이용한 분석입니다.
통상 SiO2는 SiO Symmetric와 Asymmetric 2개의 Peak 중첩되서 나오는데요.
질문입니다.
Symmetric이 강한 결합이고, Asymmetric이 약한 결합이라고 하는데...
FTIR X축은 cm-1(카이저)로 E=hv로 계산하면 결국 에너지입니다.
Symmetric은 약 1030cm-1이고, Asymmetric은 1170cm-1이니, Asymmetric이 좀 더 강한막이고, 이 Peak의 가오시안 분포 면적이 많으면 좋은 막 아닌가요?
아니면, 다른 각도로 해석하면 Asymmetric 비대칭구조는 흔히 극성분자라고 해서 양전하와 음전하가 균형을 이루지 않고 한쪽에 치우쳐 존재하는 상태를 말하죠.
즉, 다시말해서 Symmetric은 무극성 대칭구조이고, 양전하 음전하가 균형을 이루고 있고, 이는 다른 분자와의 상호작용이 극성 분자에 비해 낮기때문에 상대적으로
비대칭구조분자 보다는 안정적이다. 이렇개 해석을 해도 되는지요.
좀 헷갈리네요.
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