안녕하세요. 교수님. 

 

내플라즈마 코팅 회사에서 근무중인 최진영이라고 합니다. 

 

 

 

 

 

 

 

저희 회사에서는 내플라즈마 코팅을 반도체 공정 챔버의 부품인 라이너에 코팅하여 내식각 특성을 바탕으로 부품의 수명과 PM 주기를 단축하는 것을 목표로 하고있습니다. 

 

플라즈마 소스 해석에서 전력 균형 방정식과 같이 인가 전력이 플라즈마에 어느정도 분배되는지 중요하다고 알고있습니다. 그렇기에, 내플라즈마 코팅의 유전특성 변화가 챔버 내부 공정 분위기에 영향을 줄 수 있는지 여쭙고자 질문 드리게 되었습니다. 

 

코팅의 유전특성을 측정하는 과정에서, 특정 주파수(~30 MHz)에서 유전손실(dielectric loss)의 결과로, 유전율이 16에서 2 이하까지 떨어지는 현상을 관측하게 되었습니다. 30 MHz 이상의 고주파영역의 파워를 사용하는 식각공정에서 코팅의 유전손실로 인한 전기장 흡수가 플라즈마를 방전하는 전력의 손실로 이어져 공정의 경시변화가 발생할 수 있는지 여쭙고 싶습니다! 

 

 

감사합니다.

최진영 올림 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92261
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 20
» 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 51
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 56
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 71
782 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 79
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 81
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 101
778 Microwave & RF Plasma [1] 108
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 108
776 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 114
775 skin depth에 대한 이해 [1] 118
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 122
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 132
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
771 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 145
770 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
769 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 156

Boards


XE Login