RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

혹시 이 현상에 대한 원리에 대해 답변 주시면 너무 감사하겠습니다.

RF 300W 기준입니다. 부탁드리겠습니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75749
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19438
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56661
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67993
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90214
757 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 48
756 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 63
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 68
754 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 86
753 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 88
752 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 104
751 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 128
750 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 129
749 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 135
748 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 143
747 corona model에 대한 질문입니다. [1] 145
746 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 155
745 PECVD Uniformity [1] 156
744 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 158
743 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 161
742 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 178
741 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 180
» RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 194
739 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 200
738 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 208

Boards


XE Login