안녕하십니까, 교수님. 전자과 3학년 학부생입니다.

최근 탐침에 대해 관심이 생겨 공부하던 중, EEDF(EEPF)라는 개념을 접하게 되었는데, 궁금한 부분이 있어 질문 드립니다.

 

공정에 쓰이는 저온 플라즈마의 경우, 입자간 충돌이 상대적으로 적어 입자간 열평형을 이루지 않고, 전자의 경우 maxwellian 분포를 가정한다고 알고있었습니다.

최근 읽은 자료에 따르면,  공정 플라즈마는 non-maxwellian인 경우가 많고, 이는 logEEPF의 기울기를 통해 알 수 있다고 합니다.

 

1. LogEEPF의 기울기라 함은, 전자온도를 의미하는데, 전자 에너지의 대푯값인 전자온도가 두가지인 것이 무엇을 의미하는 것인지 궁금합니다.

2. Non maxwellain 분포가 발생하는 원인이 궁금합니다. 개인적인 생각으로 하나의 원인은, 고에너지의 전자는 쉬스의 voltage barrier을 뚫고 들어가 가열되므로 고에너지 전자의 전자온도(기울기)가 증가한다고 생각했습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
797 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 9
796 Druyvesteyn Distribution 13
795 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 20
794 플라즈마 식각 커스핑 식각량 25
793 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 36
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 56
791 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 63
790 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 63
789 플라즈마 설비에 대한 질문 67
788 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 71
787 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 71
786 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 73
785 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 77
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 90
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 94
782 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 116
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 116
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 119
779 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 136
778 Microwave & RF Plasma [1] 137

Boards


XE Login