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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63769
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499 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 842
498 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 856
497 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 858
496 RF matcher와 particle 관계 [2] 879
495 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 917
494 Group Delay 문의드립니다. [1] 917
493 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 918
492 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 921
491 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 930
490 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 939
489 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 943
488 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 945
487 플라즈마 코팅 [1] 947
486 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 956
485 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. [1] 956
484 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 963
483 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 966
482 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 970
481 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 976
480 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 998
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