Plasma in general Decoupled Plasma 관련 질문입니다.
2021.03.15 06:56
안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.
관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.
ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.
pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.
질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.
항상 많이 배우고 있습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76855 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20262 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57193 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92610 |
597 | Plasma Generator 관련해서요. [1] | 912 |
596 | 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] | 927 |
595 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 943 |
594 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 958 |
593 | Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] | 961 |
592 | 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] | 963 |
591 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 965 |
590 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 974 |
589 | 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] | 976 |
588 | Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] | 978 |
587 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 985 |
586 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 989 |
585 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 996 |
584 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 1005 |
583 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1011 |
582 | 고진공 만드는방법. [1] | 1012 |
581 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 1013 |
580 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1014 |
579 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1019 |
578 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1026 |