안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [60] 1483
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 1839
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49505
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59711
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75499
443 플라즈마 기초입니다 [1] 998
442 MATCHER 발열 문제 [3] 1011
441 플라즈마볼 제작시 [1] file 1014
440 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1042
439 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1050
438 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1054
437 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1062
436 charge effect에 대해 [2] 1062
435 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1063
434 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1070
433 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1071
432 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1077
431 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1078
430 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1081
429 Ar plasma power/time [1] 1084
428 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1095
427 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1096
426 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 1106
425 etching에 관한 질문입니다. [1] 1108
424 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1110

Boards


XE Login