기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24678
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61392
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73462
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105799
633 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 1143
632 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1161
631 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 1164
630 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1166
629 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1168
628 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1170
627 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 1173
626 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1174
625 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 1176
624 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1177
623 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [광운대 플라즈마 바이오 연구소] [1] 1183
622 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 1184
621 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전] [1] 1188
620 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1193
619 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 1201
618 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 1202
617 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1205
616 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1210
615 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1214
614 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1215

Boards


XE Login