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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61628
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440 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1152
439 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1163
438 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1167
437 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 1175
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435 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1178
434 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1197
433 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1199
432 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1235
431 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1252
430 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1256
429 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1259
428 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1268
427 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1271
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425 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1287
424 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1298
423 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1304
422 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1310
421 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1325

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