Plasma in general 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [광운대 플라즈마 바이오 연구소]

2018.06.07 17:34

안종주 조회 수:1183

아무리 찾아보아도 모르겠어서 질문을 드립니다.

제가 아는 대기압플라즈마 스프레이는 성분의 이온을 넣어야지 그 이온이 스프레이 형태로 물질의 표면에 달라 붙는 걸로 알고 있습니다. 그런데 요즘에 플라즈마 피부미용 기계는 이온을 주입하지 않는걸로 알고 있습니다. 피부미용 기계는 어떤 방식으로 작동이 되어지고 있는건가요?

꼭 좀 알려주시면 정말 감사하겠습니다!!

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103267
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24708
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61513
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105934
614 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1217
613 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1225
612 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1227
611 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1237
610 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1238
609 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1239
608 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1239
607 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1242
606 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1245
605 자기 거울에 관하여 1247
604 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1251
603 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1263
602 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1265
601 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1267
600 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1281
599 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1285
598 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1289
597 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
596 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1301
595 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1313
쓰기
태그

Boards

XE Login