공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[275]
| 76823 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20250 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57191 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68739 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92578 |
575 |
플라즈마 코팅
[1] | 1038 |
574 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
[1] | 1038 |
573 |
DC Plasma 전자 방출 메커니즘
| 1044 |
572 |
리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
| 1049 |
571 |
Decoupled Plasma 관련 질문입니다.
[1] | 1057 |
570 |
Plasma Arching
[1] | 1062 |
569 |
RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소
[1] | 1063 |
568 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 1065 |
567 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1] | 1069 |
566 |
Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다..
[3] | 1075 |
565 |
etch defect 관련 질문드립니다
[1] | 1085 |
564 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스)
[1] | 1086 |
563 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
[1] | 1090 |
562 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..?
[2] | 1092 |
561 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다.
[1] | 1114 |
560 |
RF 반사파와 이물과의 관계
[1] | 1122 |
559 |
Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.
[2] | 1122 |
558 |
식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문
[1] | 1124 |
557 |
잔류시간 Residence Time에 대해
[1] | 1127 |
556 |
MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다.
[1] | 1132 |