안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5606
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16895
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84227
471 MATCHER 발열 문제 [3] 1170
470 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1187
469 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1188
468 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1189
467 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1190
466 charge effect에 대해 [2] 1191
465 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1196
464 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1196
463 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1198
462 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1200
461 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1215
460 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1216
459 Ar plasma power/time [1] 1220
458 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1220
457 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1222
456 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1235
455 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1240
454 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1250
453 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1254
452 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1259

Boards


XE Login