DC glow discharge DC Plasma 전자 방출 메커니즘
2018.04.19 11:22
반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.
전기, 전자 전공으로 최근에 Plasma에 관심이 생겨서 공부하고 있습니다.
DC Plasma에서 전자방출 메커니즘이 여러가지가 있는 것으로 알고 있습니다.
타운센트 방전 이론에 의한 알파, 감마 작용는 이해가 가는데,
1. 플라즈마 내부 광자에 의한 음극에서의 이차 전지 방출(Photoemission)
2. 준안정(metastable) 종이 음극을 때릴 때 이차 전자 방출
위의 두가지가 무엇을 의미하는지 잘 모르겠습니다.
알고계시는 선배님들 알려주시면 감사하겠습니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77007 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20345 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57267 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68811 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92811 |
| 581 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1021 |
| 580 |
langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1]  | 1024 |
| 579 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] | 1027 |
| 578 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1029 |
| 577 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1035 |
| 576 | 플라즈마 코팅 [1] | 1039 |
| 575 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1041 |
| » | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1050 |
| 573 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1051 |
| 572 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1063 |
| 571 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1072 |
| 570 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1072 |
| 569 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1] | 1073 |
| 568 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1081 |
| 567 | Plasma Arching [1] | 1082 |
| 566 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1083 |
| 565 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1099 |
| 564 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1102 |
| 563 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1106 |
| 562 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1117 |