Others Group Delay 문의드립니다.
2019.06.26 14:07
안녕하세요
회사에서 필터 연구를 하고 있는 김동규 라고 합니다.
궁금한점이 있는데요, 마땅히 물어볼만한 곳이 없어서 이곳에서 혹시나 도음을 얻을 수 있을까해서 문의 드립니다.
계측기에서 필터 특성 값 S21, S12 값을 뽑아 냈는데요
파일이 실수와 허수 값으로 나타나 있습니다.
예를 들면
1800MH에서 S21RE는 -0.0000926, S21IM은 0.0001257
1800.5MHz 에서 S21RE는 -0.0001249, S21IM은 0.0000956
이렇게 주파수 별로10Gz 까지 나열 되어있는데요
위 값만 가지고 계산으로 Group delay 값을 구할 수 있을까요?
(계측기에서 볼 수 있지만 엑셀 파일로 계산에서 보고 싶거든요)
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76737 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92282 |
| 569 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1058 |
| 568 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1059 |
| 567 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1059 |
| 566 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1064 |
| 565 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1]  | 1066 |
| 564 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1072 |
| 563 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1081 |
| 562 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1087 |
| 561 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1104 |
| 560 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
| 559 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1113 |
| 558 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1118 |
| 557 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1118 |
| 556 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1121 |
| 555 | wafer bias [1] | 1129 |
| 554 |
전자 온도 구하기
[1] | 1131 |
| 553 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
| 552 | 자기 거울에 관하여 | 1139 |
| 551 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
| » | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |
마이트로파 문제로 보입니다. 광운공대의 최진주교수님, 서울대 전자공학과 남상욱교수님께 문의드려 보세요.