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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64186
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451 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1253
450 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1259
449 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1261
448 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1263
447 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1268
446 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1269
445 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1281
444 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1283
443 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1292
442 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1294
441 CVD 공정에서의 self bias [1] 1296
440 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1298
439 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1317
438 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1326
437 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1333
436 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1345
435 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1346
434 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1382
433 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1390
432 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1407

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