안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.

 RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변)  기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.

Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?

주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.

조언 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76779
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20225
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68721
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92404
551 전자 온도 구하기 [1] file 1141
550 Group Delay 문의드립니다. [1] 1145
549 공정플라즈마 [1] 1152
548 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1158
547 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1158
546 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1162
545 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1164
544 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1166
543 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1170
542 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1182
541 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1183
540 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1185
539 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1189
» RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1198
537 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1220
536 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1239
535 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1239
534 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1239
533 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1245
532 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1246

Boards


XE Login